Edusammud grafeeni masstootmise suunas

[alter]

Hiljuti on teadlased teinud suuri edusamme lahendamaks probleeme, mis takistavad grafeeni masstootmist, mis teeks grafeenist tõsise konkurendi elektroonilistes seadmetes praegu kasutuses olevale ränile.. Tootmisprobleeme käsitlev artikkel ilmus ajakirjas Nano Letters, koostööd tegid teadlased Saksamaa, Itaalia, Rootsi ja Venemaa teadusinstituutidest.

Victor Aristov ja kolleegid rõhutavad, et grafeen võiks tulevikus asendada räni ülikiiretes arvutiprotsessorites ning muudes seadmetes. Grafeeni masstootmise takistuseks on aga praegused kohmakad ja kallid tootmismeetodid, mille tulemuseks on tööstusseadmetes kasutamiseks ebapraktiline halvakvaliteediline grafeen.

Grafeeni struktuur


Aristovi töörühm väidab olevat välja arendanud väga lihtsa protseduuri grafeeni odavaks tootmiseks. Artiklis on kirjeldatud kõrgekvaliteedilise grafeeni sadestamist tööstuses laialtlevinud ränikarbiidi plaadikestele, valmistades seega suurepäraste elektriliste omadustega materjali. See on suureks sammuks grafeeni tehnoloogiliste rakenduste suunas, sest see tootmisprotsess on rakendatav tööstuslikus masstootmises.

Rohkem informatsiooni:

Artikkel ajakirjas Nano Letters: “Graphene Synthesis on Cubic SiC/Si Wafers. Perspectives for Mass Production of Graphene-Based Electronic Devices”

http://pubs.acs.org/stoken/presspac/presspac/full/10.1021/nl904115h

Allikas: http://www.fyysika.ee/wordpress/?p=1843